微型真空甩帶爐介紹主要由加熱室、真空系統(tǒng)、控制系統(tǒng)三部分組成。其中，加熱室通常采用電阻式或電感式加熱方式，通過(guò)高溫爐芯將加熱管與加熱室隔離，從而實(shí)現(xiàn)加熱室內(nèi)的恒定高溫。真空系統(tǒng)則包括真空泵、真空計(jì)、閥門(mén)等組件，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)加熱室內(nèi)的真空度進(jìn)行精確控制?？刂葡到y(tǒng)則負(fù)責(zé)監(jiān)測(cè)和調(diào)節(jié)加熱室內(nèi)的溫度、真空度等參數(shù)，以保證熱處理過(guò)程的穩(wěn)定性和可靠性。
在使用微型真空甩帶爐進(jìn)行工藝處理時(shí)，需要先將待處理材料放置在石英舟或陶瓷舟中，然后將舟載入加熱室內(nèi)。接下來(lái)，打開(kāi)真空系統(tǒng)，將加熱室內(nèi)的氣體抽出，直到達(dá)到所需的真空度。最后，啟動(dòng)加熱系統(tǒng)，將加熱室內(nèi)的溫度升至所需的高溫，并在一定時(shí)間內(nèi)進(jìn)行保溫處理。完成處理后，關(guān)閉加熱系統(tǒng)，等待加熱室冷卻后再打開(kāi)真空系統(tǒng)，取出處理好的材料。
真空甩帶爐主要應(yīng)用于薄膜的制備、熱解和燒結(jié)等領(lǐng)域。例如，在光電子器件制備中，常用真空甩帶爐對(duì)金屬和半導(dǎo)體材料進(jìn)行熱處理，以改善材料的電學(xué)性能和光學(xué)特性。在高分子材料領(lǐng)域，真空甩帶爐則可以用于烘干、熱解和燒結(jié)等工藝，以提高材料的密度和穩(wěn)定性。
微型真空甩帶爐介紹特點(diǎn)
1·爐體全不銹鋼設(shè)計(jì)，外形美觀大方，不生銹。
2·采用立式側(cè)部開(kāi)門(mén)結(jié)構(gòu)，結(jié)構(gòu)新穎，裝卸料方便，操作直觀。
3 .配置大口徑觀察窗，可實(shí)時(shí)觀察爐內(nèi)的冶煉情況
3·冶煉溫度高，溫度可1700度以上，
4·采用專(zhuān)用IGBT高頻電源，，熔煉效果好。
5·采用兩級(jí)控制系統(tǒng)真空度高，可達(dá)5.0*10-3pa
6配有操作模擬屏，操作直觀簡(jiǎn)潔
參數(shù)配置
1. 甩帶系統(tǒng)采用伺服電機(jī)控制，克服普通變頻電機(jī)抖動(dòng)，電機(jī)轉(zhuǎn)速不穩(wěn)的難題。
擴(kuò)展性強(qiáng)，可增加噴鑄澆鑄功能
1.設(shè)備總功率：10Kw；
2.電源電壓：?jiǎn)蜗?20V,50Hz
3.真空度：10Pa 5×10E-3Pa 6.7×10E-4Pa可選
4.設(shè)備容量：5-20g 感應(yīng)熔煉容量50-200g
5.熔煉溫度0-1700 加石墨坩堝可達(dá)2100度以上
6·坩堝配置：石英坩堝 BN坩堝 石墨坩堝
7.真空泵組：飛越機(jī)械泵 機(jī)械泵+擴(kuò)散泵 機(jī)械泵+分子泵 配置
8.甩帶銅滾尺寸：φ220mmx40(不帶水冷)
9.甩帶寬度： 1mm 6mm 10mm
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產(chǎn)品型號(hào)：KSD-0.02
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